電子特種氣體之氯化氫氣體在半導體及相關領域的應用

大約有110類電子特氣在半導體及相關領域應用，常用類別超過30余。

按成分分類如下：

硅系、砷系、磷系、硼系、金屬氫化物、鹵化物和金屬烴化物七類

按用途分類如下：

摻雜用氣體、外延用氣體、離子注入氣、發光二極管用氣、刻蝕用氣體、化學氣相沉積氣和平衡氣

氯化氫（HCL）氣體屬于特種氣體中的腐蝕性氣體，一般作為發光二極管用氣及氣相刻蝕用氣，在晶圓制造中用于氧化、控制離子侵入氧化層、去除不必要的金屬雜質和清洗。

因產品使用領域的精度越來越高，故提純成為電子特種氣體制備工藝中的最大技術要求。

本公司深耕氯化氫的高純制備工藝，三十幾年只為更高的純度，更穩定的品質而努力，成品得到了國際用戶的認可，有林德、臺積電等知名大企業為我公司的產品質量和服務背書。